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sCMOS相機丨Dhyana XF95碳K-edge X射線疊層成像

time23/04/21

碳K-edge是碳原子的X射線吸收邊緣,其在軟X射線光譜學中具有重要的應用。基于碳K-edge的X射線掃描透射顯微成像(STXM)的研究已經相當廣泛,但基于碳K-edge X射線疊層成像(Ptychography)的研究卻鮮有報道。

2022年,法國SOLEIL同步輻射中心的相關研究人員利用鑫圖軟X射線相機實現了對碳K-edge疊層成像、光譜和線性二向色的拼圖測量,其研究結果驗證了碳K-edge疊層成像技術在空間分辨率和圖像質量方面的優勢,以及應用于高分辨率光譜顯微術的可行性。

http://m.dfbanjia.cn/learning/scmos%e7%9b%b8%e6%9c%ba%e4%b8%a8dhyana-xf95%e7%a2%b3k-edge-x%e5%b0%84%e7%ba%bf%e5%8f%a0%e5%b1%82%e6%88%90%e5%83%8f/

圖:Carbon Nanotube (CNT) 樣品的碳K-edge光譜和 X射線線性二向色 (X-ray linear dichroic ,XLD) 成像。aCNT水平(紅色)和垂直(藍色)取向的C1s光譜,使用固定的線性垂直 (LV) 偏振從疊層堆棧重建得到,該堆棧測量使用1.0μm離焦斑點(282-294 eV,0.5 eV步進)。垂直CNT的光譜強度已調整為具有與水平CNT相同的OD 293 –OD 282值。b、c來自CNT樣品的OD圖像,分別從使用線性垂直(LV)和線性水平(LH)偏振測量的1.0μm離焦疊層重建幅度圖像推導而來,測量點在285.2 eV處。光密度 (OD) 強度比例適用于 ( b ) 和 ( c )。d X 射線線性二向色 (XLD) 圖像 (LV–LH),從相應的疊層圖像 ( b ) 和 ( c ) 中獲得。e XLD圖像 (LV–LH) ,從使用25nm FZP記錄的相同區域的STXM圖像推導而來。( d ) 和 ( e )中的強度比例為 ΔOD。所有圖像中的比例尺均為 500 nm。

Dhyana XF95應用優勢分析

疊層成像是一種需要基于高速檢測器、大量數據采集和計算能力構建的成像技術,具有大視場、高分辨率的成像優勢。隨著第三代、第四代同步輻射光源技術的發展,X射線顯微疊層成像技術在過去十年中發展迅速,但由于目前軟X射線的探測器大多數使用的是背照式CCD,圖像傳輸速度很慢,且大多數科學CCD相機對能量低于500eV 的靈敏度有限,一定程度上限制了這一技術的發展。

鑫圖Dhyana XF95采用的新一代無抗反射鍍膜芯片,在80-1000eV區間的量子效率整體超過了90%,甚至在部分波段達到了近乎100%的水平,且相機在全分辨率(2048 × 2048)模式下的傳輸速度可以達到24幀/秒,是傳統背照式CCD的數十倍,完全可作為背照式CCD軟X射線疊層成像的替代檢測器,應用于以往受限的各類領域中。

參考文獻

Mille, N., Yuan, H., Vijayakumar, J. et al. Ptychography at the carbon K-edge. Commun Mater 3, 8 (2022). https://doi.org/10.1038/s43246-022-00232-8

該文章旨在為大家提供先進成像技術相關應用參考,部分內容摘抄于相關論文研究成果,版權歸原作者所有,引用請標注出處。

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